特許
J-GLOBAL ID:200903020987823042
ワイヤー切断加工機用水性加工液組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
青麻 昌二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-212720
公開番号(公開出願番号):特開平10-053789
出願日: 1996年08月12日
公開日(公表日): 1998年02月24日
要約:
【要約】【課題】 砥粒を分散させて使用した場合、ワイヤソーによる安定した切断加工性に優れ、しかも切断後の加工物から砥粒、加工物切粉、加工液を水で容易に取り去ることができる、ワイヤー切断加工機用水性加工液組成物である。【解決手段】 下記の成分A、B、C、D及びEを含有することを特徴とする。A.特定のポリグリコールエーテルを10〜60重量%。B.有機ベントナイト及び無機ベントナイトの中より選択された少なくとも一種を0.1〜5.0重量%。C.カルボキシメチルセルロース(CMC)、MgO、メタノール及びエタノールの中より選択された少なくとも一種を0.01〜5.0重量%。D.β-ナフタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合物及び石油又は合成スルホン酸のNa、K、Li、アミンの各塩の中より選択された少なくとも一種を0.1〜2.0重量%。E.水を28〜70重量%。
請求項(抜粋):
下記の成分A、B、C、D及びEを含有することを特徴とするワイヤー切断加工機用水性加工液組成物。A.次の一般式(1)又は(2)で表されるポリグリコールエーテルの中より選択された少なくとも一種を10〜60重量%。【化1】【化2】ここでR1 は水素又は炭素原子数が1〜6のアルキル基、またはフェニル基、R2 は水素又はアセチル基、nは1〜4の整数。B.有機ベントナイト及び無機ベントナイトの中より選択された少なくとも一種を0.1〜5.0重量%。C.カルボキシメチルセルロース(CMC)、MgO、メタノール及びエタノールの中より選択された少なくとも一種を0.01〜5.0重量%。D.β-ナフタレンスルホン酸ソーダホルマリン縮合物及び石油又は合成スルホン酸のNa、K、Li、アミンの各塩の中より選択された少なくとも一種を0.1〜2.0重量%。E.水を28〜70重量%。
IPC (9件):
C10M173/00
, B28D 5/04
, H01L 21/304 311
, C10M105:18
, C10M125:00
, C10M135:10
, C10M137:04
, C10M133:04
, C10N 40:20
FI (3件):
C10M173/00
, B28D 5/04 C
, H01L 21/304 311 W
引用特許:
審査官引用 (6件)
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切削液、その製造方法およびインゴットの切断方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-224239
出願人:信越半導体株式会社, 大智化学産業株式会社, 三益半導体工業株式会社
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切削液、その製造方法およびインゴットの切断方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-224237
出願人:信越半導体株式会社, 大智化学産業株式会社, 三益半導体工業株式会社
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特開平4-216897
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特開平4-218594
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水性研削剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-245141
出願人:株式会社ネオス
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特開昭56-127690
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