特許
J-GLOBAL ID:200903020996125463
粒径分布測定装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤本 英夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-043303
公開番号(公開出願番号):特開2002-243624
出願日: 2001年02月20日
公開日(公表日): 2002年08月28日
要約:
【要約】【課題】 散乱光強度パターンの誤差要因となっている散乱光の減衰による影響を除去して、粒径分布の測定精度を向上できる粒径分布測定装置を提供する。【解決手段】 測定対象となる粒子を分散した状態で収容するセル20と、このセル20に対して光を照射する光源21,22と、光が前記粒子に当たって回折もしくは散乱する各散乱角度ごとの散乱光強度をそれぞれ測定する検出器23〜26と、各散乱角度に対応する散乱光強度の測定値GM (1),GM (2),..., GL(1),GL (2),...を用いて前記粒子の粒径分布f(j)を求める演算処理部42とを有する粒径分布測定装置において、前記光源21,22の光軸上の検出器24,26による光強度の測定値GL (0),GM (0) から求められる、セル20を直進する透過光の減衰量GL ,GM を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度GM'(1), GM '(2), ..., GL '(1), GL '(2), ...をそれぞれ補正することにより散乱光強度の減衰による影響を補正する測定値補正手段Rを有する。
請求項(抜粋):
測定対象となる粒子を分散した状態で収容するセルと、このセルに対して光を照射する光源と、光が前記粒子に当たって回折もしくは散乱する各散乱角度ごとの散乱光強度をそれぞれ測定する検出器と、各散乱角度に対応する散乱光強度の測定値を用いて前記粒子の粒径分布を求める演算処理部とを有する粒径分布測定装置において、前記光源の光軸上の検出器による光強度の測定値から求められる、セルを直進する透過光の減衰量を用いて、各散乱角度に対応する散乱光強度をそれぞれ補正することにより散乱光強度の減衰による影響を補正する測定値補正手段を有することを特徴とする粒径分布測定装置。
IPC (4件):
G01N 15/02
, G01B 11/08
, G01N 21/03
, G01N 21/49
FI (4件):
G01N 15/02 C
, G01B 11/08 G
, G01N 21/03 Z
, G01N 21/49 A
Fターム (45件):
2F065AA26
, 2F065BB07
, 2F065CC00
, 2F065FF42
, 2F065FF48
, 2F065GG04
, 2F065HH02
, 2F065JJ05
, 2F065JJ18
, 2F065LL09
, 2F065LL19
, 2F065LL22
, 2F065LL36
, 2F065QQ03
, 2F065QQ17
, 2G057AA01
, 2G057AA02
, 2G057AB01
, 2G057AB04
, 2G057AB06
, 2G057AB07
, 2G057AC01
, 2G057BA01
, 2G057BB01
, 2G059AA03
, 2G059AA05
, 2G059BB06
, 2G059BB09
, 2G059CC19
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG03
, 2G059GG10
, 2G059JJ03
, 2G059JJ11
, 2G059JJ14
, 2G059JJ20
, 2G059KK03
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM09
, 2G059MM10
, 2G059MM14
引用特許: