特許
J-GLOBAL ID：200903021013696775

抗菌性低刺激化粧料

発明者：
今堀 篤子

今堀 篤子 について


出願人/特許権者：
株式会社ノエビア

株式会社ノエビア について


代理人 (1件)： 小川 篤子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-220610
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045557
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【目的】 有効な抗菌作用を示し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけでなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 一般式(1),一般式(2)及び一般式(3)で示されるN-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩より選ばれる1種又は2種以上と、地楡の抽出物又は粉砕物を併用して成る。【化1】【化2】【化3】(但し、一般式(1)〜一般式(3)中、RCOは炭素数6〜20の飽和又は不飽和脂肪酸残基、Xは-NH2,-OCH3,-OC2H5,-OC3H7,-OC4H9又は-OCH2C6H5を示し、一般式(2)中、nは3又は4を示す。)地楡の抽出物又は粉砕物との併用により、抗菌活性が相乗的に増強され、皮膚に対する刺激性や使用時の不快感を緩和することができる。
請求項（抜粋）：
一般式(1),一般式(2)及び一般式(3)で示されるN-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩より選ばれる1種又は2種以上と、地楡の抽出物又は粉砕物を併用することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。【化1】【化2】【化3】(但し、一般式(1)〜一般式(3)中、RCOは炭素数6〜20の飽和又は不飽和脂肪酸残基、Xは-NH2,-OCH3,-OC2H5,-OC3H7,-OC4H9又は-OCH2C6H5を示し、一般式(2)中、nは3又は4を示す。)
IPC (2件)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (3件)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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