電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-322488
公開番号（公開出願番号）：特開2002-351062
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に可溶な樹脂、酸の作用により水を発生する化合物、溶剤、界面活性剤、及び塩基性化合物を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)アルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)酸の作用により水を発生する化合物、(D)溶剤、(E)界面活性剤、及び(F)塩基性化合物を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CC03 , 2H025CC04 , 2H025CC17 , 2H025CC20

引用特許：

審査官引用 (2件)

パターン形成材料およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-198353 出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
特開昭61-223733

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