特許

J-GLOBAL ID：200903021044343102

プラズマ発生装置

発明者： 奥村 裕 ,  佐藤 隆 ,  徳村 哲夫 ,  瀬川 利規 ,  野沢 俊久 ,  石橋 清隆 ,  茂山 和基
出願人/特許権者： 株式会社エフオーアイ ,  株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 佐藤 香
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-250113
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087096
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 角形基板等へ良質のプラズマを均一に供給する。【解決手段】プラズマ発生空間22がプラズマ処理空間13に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、プラズマ発生空間22は、その機構21に四辺を有し、磁性部材25を介挿しうる複数に分かれ、それぞれが四辺の何れかに対して平行に延びている。辺縁部まで一様に分布する。また、対角線に沿った凹み(11b)がプラズマ処理空間13の機構11(11a)に形成され、連通路14のうち外側に位置するもの(14a)が内側および凹みへ向けて傾斜している。薄くなりがちな隅部のプラズマが補われる。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理空間が形成された第1機構と、前記第1機構に取着して又はそれと一体的に設けられプラズマ発生空間が形成された第2機構とを具え、前記プラズマ発生空間が前記プラズマ処理空間に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、前記第2機構は、四辺を有するものであり、前記プラズマ発生空間は、磁性部材を介挿しうる複数に分かれたものであり、且つそれぞれが前記四辺の何れかに対して平行に延びたものとなっていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/50

FI (6件)：

H05H 1/46 L ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 粒子線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-292117   出願人：日新電機株式会社
• 特開平4-314863
  
• 特開平4-314863
  
• 特開平4-314863