特許
J-GLOBAL ID：200903021095295480
リソグラフィー用下地材
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343436
公開番号（公開出願番号）：特開平10-228113
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 基板からの反射光を十分に抑制し、優れた反射防止効果を示すとともに、段差基板に対するコンフォーマル性及び塗布性能がよく、しかも昇華物の発生しにくいリソグラフィー用下地材を提供する。【解決手段】 (A)ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物の中から選ばれた架橋剤、(B)少なくとも1個の水酸基を有するビスフェニルスルホン類及びベンゾフェノン類の中から選ばれた少なくとも1種のヒドロキシ化合物とアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルを単量体の少なくとも一部として用いて得た重合体又は共重合体及び場合により(C)高吸光性物質を含有してなるリソグラフィー用下地材である。
請求項（抜粋）：
(A)ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物の中から選ばれた架橋剤及び(B)少なくとも1個の水酸基を有するビスフェニルスルホン類及びベンゾフェノン類の中から選ばれた少なくとも1種のヒドロキシ化合物とアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルを単量体の少なくとも一部として用いて得た重合体又は共重合体を含有することを特徴とするリソグラフィー用下地材。
IPC (6件)：
G03F 7/11 503
, C09D 5/00
, C09D133/04
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
, C08F 20/10
G03F 7/11 503
, C09D 5/00 M
, C09D133/04
, G03F 7/004 506
, C08F 20/10
, H01L 21/30 574
