特許
J-GLOBAL ID:200903021168109965
生体分子結晶の生成を監視するための方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
▲吉▼川 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-027700
公開番号(公開出願番号):特開2005-221503
出願日: 2005年02月03日
公開日(公表日): 2005年08月18日
要約:
【課題】少なくとも1つの蛍光放射源を含んでいる高分子結晶の生成を監視するための方法および装置を提供する。【解決手段】(a)少なくとも1つの蛍光放射源を含んでいる分子種の高分子を溶解してなる溶液塊を、該高分子の高分子結晶への結晶化を生じさせる条件、または該高分子の高分子結晶への結晶化を生じさせると予想される条件にさらす工程、(b)工程aの溶液塊にコヒーレントな光を照射し、高分子結晶によって散乱した光を、少なくとも1つの所定の空間角度範囲において、散乱光の検出のための手段によって検出する工程、(c)工程bの前、工程bと同時、または工程bの後に、その光放射が前記蛍光放射源の励起に適している光源によって前記溶液塊を照射し、蛍光を検出する工程、を有している方法ならびに装置により実施することが出来る。【選択図】図1
請求項(抜粋):
少なくとも1つの蛍光放射源を含んでいる高分子結晶の生成を監視するための方法であって、
(a)少なくとも1つの蛍光放射源を含んでいる分子種の高分子を溶解してなる溶液塊を、該高分子の高分子結晶への結晶化を生じさせる条件、または該高分子の高分子結晶への結晶化を生じさせると予想される条件にさらす工程、
(b)工程aの溶液塊にコヒーレントな光を照射し、高分子結晶によって散乱した光を、少なくとも1つの所定の空間角度範囲において、散乱光の検出のための手段によって検出する工程、および
(c)工程bの前、工程bと同時、または工程bの後に、その光放射が前記蛍光放射源の励起に適している光源(5)によって前記溶液塊を照射し、該蛍光を蛍光検出のための手段(1)によって検出する工程
を有している方法。
IPC (3件):
G01N21/64
, G01N15/02
, G01N33/483
FI (3件):
G01N21/64 Z
, G01N15/02 A
, G01N33/483 C
Fターム (23件):
2G043AA03
, 2G043BA16
, 2G043CA04
, 2G043EA01
, 2G043EA14
, 2G043HA05
, 2G043HA07
, 2G043JA02
, 2G043KA03
, 2G043KA09
, 2G043LA02
, 2G043LA03
, 2G045BB01
, 2G045BB08
, 2G045DA20
, 2G045DA36
, 2G045FA14
, 2G045FA19
, 2G045FA27
, 2G045FB12
, 2G045FB15
, 2G045JA01
, 2G045JA02
引用特許:
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