特許
J-GLOBAL ID：200903021201307697
光ディスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-206696
公開番号（公開出願番号）：特開平8-077629
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 フライング方式を用いた光ディスクシステムにおいて、浮上型磁気ヘッドの安定浮上面積が増大して記録容量を増加させることが可能となり、しかも保護膜周縁部に形成される隆起部の形状を均一なものとする。【構成】 保護膜3の周縁部に形成される隆起部4のディスク径方向の幅が0.9mm以下となるように形成して光磁気ディスクを構成する。
請求項（抜粋）：
基盤上に記録層が成膜され、この記録層上に保護膜がスピンコート法により成膜されてなる光ディスクにおいて、上記保護膜の周縁部に形成される隆起部のディスク径方向の幅が0.9mm以下であることを特徴とする光ディスク。
IPC (2件)：
G11B 11/10 521
, G11B 11/10 541
