特許

J-GLOBAL ID：200903021214142727

リフロー装置

発明者： 岡野 輝男 ,  山下 文弘 ,  今井 英和 ,  藤川 真一
出願人/特許権者： 株式会社タムラ製作所 ,  株式会社タムラエフエーシステム
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344164
公開番号（公開出願番号）：特開2001-198671
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】 構成を複雑化せずにワークを輻射熱で加熱できるリフロー装置を提供する。【解決手段】 上部炉体部11では、シロッコファン30を動作させて送風路21からヒータ32,33方向に送風し、ヒータ32,33で雰囲気を加熱して熱風とし、整流板41の透孔42で整流した後、輻射パネル43の透孔44を介してワークwの上面に熱風を供給する。ヒータ32,33は遠赤外線を照射して輻射パネル43を加熱し、この輻射パネル43の輻射熱によりワークwの上面を均一に加熱する。

請求項（抜粋）：

炉体と、この炉体内に設けられワークを載置する載置手段と、前記載置手段に対向して設けられワークを輻射熱で熱する輻射パネルと、この輻射パネルを加熱する加熱手段とを具備したことを特徴とするリフロー装置。

IPC (9件)：

B23K 1/008 ,  B23K 3/04 ,  F27B 9/06 ,  F27B 9/08 ,  F27B 9/10 ,  F27B 9/24 ,  F27D 7/02 ,  H05K 3/34 507 ,  H05K 3/34

FI (9件)：

B23K 1/008 C ,  B23K 3/04 X ,  F27B 9/06 E ,  F27B 9/08 ,  F27B 9/10 ,  F27B 9/24 E ,  F27D 7/02 A ,  H05K 3/34 507 K ,  H05K 3/34 507 J

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-081269
  
• リフロー方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-206735   出願人：松下電器産業株式会社
• リフロー用加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-267209   出願人：株式会社タムラ製作所
• 特開平1-215462
  
• 不活性ガス雰囲気炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-276516   出願人：古河電気工業株式会社