特許
J-GLOBAL ID：200903021238142345

スクリーン印刷用マスク、その製造方法および使用方法

発明者：
下山 正

下山 正 について

, 
谷口 義博

谷口 義博 について


出願人/特許権者：
株式会社プロセス・ラボ・ミクロン

株式会社プロセス・ラボ・ミクロン について


代理人 (1件)： 吉沢 敏夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-215508
公開番号（公開出願番号）：特開平11-042867
出願日： 1997年07月28日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 従来のシルクスクリーンの、寸法精度不良、耐久性不足、厚みの不均一性、水洗浄の不可およびアスペクト比を改善したスクリーン印刷用マスクを提供する。【解決手段】 ポリイミドまたはポリエステルシートと少なくとも1種の金属層との積層構造体からなり、ポリイミドまたはポリエステルシートに印刷パターンに対応する開口部を有し、金属層にはネット状またはドット状の開口部を有するスクリーン印刷用マスク。
請求項（抜粋）：
ポリイミドまたはポリエステルシートと少なくとも1種の金属層との積層構造体からなり、ポリイミドまたはポリエステルシートは印刷画像パターンに対応する開口部を有し、金属層は均一なネット状またはドット状の開口部を有することを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
IPC (5件)：
B41N 1/24 ,  B41C 1/14 ,  G03F 7/12 ,  H05K 3/12 610 ,  H05K 3/34 505
FI (5件)：
B41N 1/24 ,  B41C 1/14 ,  G03F 7/12 ,  H05K 3/12 610 P ,  H05K 3/34 505 D
引用特許：
審査官引用 (11件)
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