特許

J-GLOBAL ID：200903021279753693

光化学反応処理装置および光化学反応処理方法

発明者： 角谷 祐公 ,  中野 浩二
出願人/特許権者： 株式会社日本フォトサイエンス
代理人 (1件)： 飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-210993
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024774
出願日： 2001年07月11日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：

【要約】【課題】 光照射量を所定の水準に制御することで、光量過多による意図しない光反応を制御すると共に、併せて省エネルギー・省メンテナンスの光反応処理装置及び方法を提供する。【解決手段】 複数の光源を具備し、該光源からの光の照射によって被照射体の光化学反応処理を行う光化学反応処理装置において、複数の光源のうち一部の光源を点灯もしくは調光点灯し、点灯もしくは調光点灯する光源の組み合わせを順次切り替えること、並びに、光源の経時的照度低下特性を基に、使用時間経過に伴い、点灯もしくは調光点灯する光源数と消灯する光源数の比率を変更させることで、被照射体に対する光照射量を所定の水準に制御し、光量多過による意図しない光反応を抑制することができる。

請求項（抜粋）：

複数の光源を具備し、該光源からの光の照射によって被照射体の光化学反応処理を行う光化学反応処理装置において、点灯する光源を使用時間経過に応じて制御することにより、前記被照射体に対する光照射量を所定の水準に制御することを特徴とする光化学反応処理装置。

IPC (4件)：

B01J 19/12 ,  A61L 2/10 ,  H05B 37/02 ,  H05B 41/00

FI (4件)：

B01J 19/12 C ,  A61L 2/10 ,  H05B 37/02 Z ,  H05B 41/00 A

Fターム (27件)：

3K073AA21 ,  3K073AA43 ,  3K073AA83 ,  3K073AA86 ,  3K073AA87 ,  3K073AB04 ,  3K073AB07 ,  3K073CF16 ,  3K073CG01 ,  3K073CG06 ,  3K073CG15 ,  3K073CG26 ,  3K073CG42 ,  3K073CJ16 ,  3K073CJ19 ,  4C058AA20 ,  4C058BB06 ,  4C058KK02 ,  4C058KK21 ,  4C058KK32 ,  4G075AA13 ,  4G075AA70 ,  4G075BA04 ,  4G075CA32 ,  4G075CA33 ,  4G075EA02 ,  4G075FB06

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 光化学反応処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-222364   出願人：株式会社日本フオトサイエンス
• 照明装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-067396   出願人：松下電工株式会社
• 光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-331686   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 紫外線殺菌装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-267659   出願人：株式会社荏原製作所
• 光触媒用光源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-118179   出願人：株式会社日立製作所
• 照明装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-180884   出願人：松下電工株式会社
• 特開平3-055212