特許

J-GLOBAL ID：200903021373227237

撹拌分散装置

発明者： 許 神安 ,  陳 柏智
出願人/特許権者： 許 神安 ,  陳 柏智
代理人 (1件)： 服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-257471
公開番号（公開出願番号）：特開2002-066294
出願日： 2000年08月28日
公開日（公表日）： 2002年03月05日
要約：

【要約】【課題】 材料を均一に撹拌でき、品質の高い混合物を形成できる撹拌分散装置を提供する【解決手段】 液体7と固体6が設置され、真空状態である中空内部と、真空度が撹拌する混合物の加工の必要に応じて調節可能な密閉容器3とを備える。密閉容器3の頂端部には、固体6を均一に密閉容器3の内部に落下させる材料供給器5が設置される。撹拌器4をさらに備え、均一な撹拌が行われるよう密閉容器3の中央部あるいは底面近傍に撹拌片43が延伸して設置される。密閉容器3は内部の空気が除去され真空状態で撹拌器4により撹拌されるため、混合物への空気中のごみおよびちり等の混入を防止できる。また、撹拌機4は回転および上下移動可能であるため固体は充分に液体と混合される。したがって、高い品質の混合物を形成できる。

請求項（抜粋）：

液体および固体が収容可能な真空状態である中空内部と、前記中空内部の真空度を調節可能な密閉容器と、前記密閉容器の頂端部に設置され、固体を均一に前記密閉容器の内部に供給する材料供給器と、複数の撹拌片を有し、前記複数の撹拌片は前記密閉容器の中央部あるいは底面近傍まで延伸し均一な撹拌が可能な撹拌器とを備えることを特徴とする撹拌分散装置。

IPC (5件)：

B01F 13/06 ,  B01F 3/12 ,  B01F 7/16 ,  B01F 15/00 ,  B01F 15/02

FI (7件)：

B01F 13/06 ,  B01F 3/12 ,  B01F 7/16 D ,  B01F 7/16 E ,  B01F 15/00 C ,  B01F 15/00 D ,  B01F 15/02 B

Fターム (20件)：

4G035AB43 ,  4G036AC38 ,  4G037AA03 ,  4G037DA01 ,  4G037DA15 ,  4G037DA23 ,  4G037EA04 ,  4G078AA13 ,  4G078AB05 ,  4G078AB11 ,  4G078AB20 ,  4G078BA05 ,  4G078CA01 ,  4G078CA09 ,  4G078CA12 ,  4G078CA17 ,  4G078DA00 ,  4G078DB08 ,  4G078EA01 ,  4G078EA10

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 練歯磨製造工程における真空度及び減圧速度の制御方法及び練歯磨の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-185339   出願人：ライオン株式会社
• 繊維、粉末の混合方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-145614   出願人：住友金属工業株式会社, イゲタ鋼板株式会社
• 特開昭52-138754
  
• 流動化処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-293189   出願人：日立建機株式会社
• 特開昭52-138754