特許

J-GLOBAL ID：200903021376407090

プラズマ処理装置用のガスシャワープレート

発明者： 有田 潔 ,  中川 顕 ,  久我 浩司 ,  俣野 泰司 ,  佐藤 信博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社 ,  黒崎播磨株式会社
代理人 (4件)： 山田 卓二 ,  田中 光雄 ,  和田 充夫 ,  岡部 博史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-525093
公開番号（公開出願番号）：特表2008-535203
出願日： 2006年04月04日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：

下部電極3と上部電極4の間のプラズマ処理空間Aにプラズマを発生させ、下部電極3上に載置された処理対象物Wのプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、上部電極4を構成するガスシャワープレート43の外縁部にプラズマ処理時の温度急上昇にともなう熱膨張によるひずみを吸収するための切り欠き部Sを等ピッチにて複数形成することで、プラズマ処理時の急激な温度上昇にともなう熱膨張のために、ガスシャワープレートの外縁部にクラックが発生するなどして破損するのを防止する。

請求項（抜粋）：

ガス供給部から供給されたプラズマ発生用ガスをプラズマ処理装置の上部電極と下部電極の間のプラズマ処理空間に送出するガスシャワープレートであって、 セラミックス粒子の焼結体により通気性を有する多孔質板として形成され、その外縁部にその厚み方向に貫通する熱膨張吸収のための切り欠き部を複数形成したプラズマ処理装置用のガスシャワープレート。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (1件)：

H01L21/302 101L

Fターム (3件)：

5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BB29

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 熱処理装置のシャワーヘッド構造
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-290504   出願人：東京エレクトロン株式会社