特許

J-GLOBAL ID：200903021457639336

露光方法及び露光装置

発明者： 川島 美代子 ,  鈴木 章義 ,  斉藤 謙治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175204
公開番号（公開出願番号）：特開2000-082663
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】周期パターン露光と通常露光の2つの露光法を用いて従来よりも複雑な形状のパターンをウエハに形成すること。【解決手段】周期パターンで露光を行なう周期パターン露光と使用する露光装置の分解能以下の線幅のパターンを有するマスクを用いる投影露光を露光と露光の間で現像することなく同一被露光領域に行なう際に、前記投影露光を投影光学系の結像面と被露光領域の該投影光学系の光軸方向の位置関係を変えつつ行なうこと。

請求項（抜粋）：

感光体を、周期パターンを有する第1パターンで露光する段階と、該感光体を、投影光学系を用いて、該第1パターンとは異なる第2パターンで露光する段階とを含む多重露光によって該感光体に所望のパターンを露光する露光方法において、該第2パターンの露光は、該第2パターンの像のフォーカス位置に対する該感光体の該投影光学系の光軸方向の位置を複数にして、各位置で行なっていることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• フォトレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016763   出願人：株式会社リコー