特許
J-GLOBAL ID：200903021575682289
基板処理装置のクリーニング方法,基板処理装置,プログラム,プログラムを記録した記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-360822
公開番号（公開出願番号）：特開2007-165648
出願日： 2005年12月14日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】処理室内のクリーニング処理時に発生する異常放電を防止しつつ,処理室に応じた適切なクリーニング処理を実行することができるクリーニング方法を提供する。【解決手段】本発明にかかる基板処理装置は,複数の処理室を備え,ある処理室200をクリーニングする場合には,先ずその処理室内を低圧力雰囲気にして不活性ガスの導入と排気を行いながら,その処理室の第1処理用印加電圧情報に基づいて静電チャック214に対する電圧印加制御を行う第1処理を実行した後,その処理室内を高圧力雰囲気にして不活性ガスの導入と排気を行いながら,その処理室の第2処理用印加電圧情報に基づいて静電チャックに対する電圧印加制御を行う第2処理を実行する。これにより,処理室内のクリーニング処理を処理室の構成に応じて適切な印加電圧で行うことが可能となる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被処理基板に対して所定の処理を施す処理室を備え,前記処理室内をクリーニングする基板処理装置のクリーニング方法であって,
前記処理室内を低圧力雰囲気にしてガス導入系による前記処理室内への所定ガスの導入と排気系による前記処理室内の排気を行いながら,設定情報記憶手段に設定記憶された第1処理用印加電圧情報に基づいて前記処理室内の部材に対する電圧印加制御を行う第1処理工程と,
前記処理室内を前記第1処理における圧力よりも高い高圧力雰囲気にして前記ガス導入系による前記処理室内への所定ガスの導入と前記排気系による前記処理室内の排気を行いながら,前記設定情報記憶手段に設定記憶された第2処理用印加電圧情報に基づいて前記部材に対する電圧印加制御を行う第2処理工程と,
を有することを特徴とする基板処理装置のクリーニング方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
, C23C 16/44
H01L21/302 101H
, H01L21/205
, C23C16/44 J
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA06
, 4K030GA02
, 4K030JA09
, 4K030KA41
, 4K030LA15
, 5F004AA15
, 5F004BA04
, 5F004BD04
, 5F004CA08
, 5F045AA08
, 5F045BB10
, 5F045BB15
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045DQ17
, 5F045EB06
