特許
J-GLOBAL ID：200903021592307416
クリーンルーム及び半導体装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-292843
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250552
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：
【要約】【課題】 半導体基板が配置されている領域に存在する浮遊パーティクルを低減する。【解決手段】 クリーンルーム10は、半導体製造装置13に投入される半導体基板を収納したカセット14が配置される第1のクリーン領域10aと、作業者16が作業を行なう第2のクリーン領域10bとからなる。第1のクリーン領域10aと第2のクリーン領域10bとの間には板状のアイリッド11が設けられている。第1のクリーン領域10aにおいて上方から下方に向かう第1の気流の速度は、第2のクリーン領域10bにおいて上方から下方に向かう第2の気流の速度よりも大きい。
請求項（抜粋）：
製造装置に投入される半導体基板が配置される第1のクリーン領域と、前記第1のクリーン領域に隣接して設けられ作業者が配置される第2のクリーン領域とを備え、前記第1のクリーン領域には、上方から下方に向かう第1の気流が導入され、前記第2のクリーン領域には、上方から下方に向かう第2の気流が導入され、前記第1の気流の速度は前記第2の気流の速度よりも大きいことを特徴とするクリーンルーム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F24F 7/06 C
, H01L 21/02 D
3L058BD00
, 3L058BE02
, 3L058BF01
, 3L058BF05
, 3L058BF06
, 3L058BG01
, 3L058BG04
