特許
J-GLOBAL ID:200903021633080022

レーザ加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 粟野 重孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-207897
公開番号(公開出願番号):特開平9-029467
出願日: 1995年07月21日
公開日(公表日): 1997年02月04日
要約:
【要約】【目的】 大出力で、かつビーム品質のよいレーザ加工装置を提供する。【構成】 第1のレーザ発振器と第2のレーザ発振器は、互いに独立で偏光方向が90度異なる直線偏光の第1のレーザ光と第2のレーザ光を出力し、両者の交差する位置に配置されたZnSeの透過板4が、いずれか一方のレーザ光に対してブリュースタ角度になるように設置されることにより、全透過と全反射のレーザ光とが同一光線上を進行して加算され、出力が加算されて大きくなるとともに、偏光方向がランダムな加工用のレーザ光を生成する。このレーザ光は円偏波に近い加工結果をもたらして、大出力でありながらビーム品質が向上している。
請求項(抜粋):
直線偏光の第1のレーザ光を出力する第1のレーザ発振器と、前記第1のレーザ光と偏光方向が90度異なる直線偏光の第2のレーザ光を出力する第2のレーザ発振器と、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とを交差させた位置に、前記第1または第2のレーザ光のいずれか一方に対してブリュースタ角度で設置した透過板とを備え、前記透過板を透過したレーザ光と反射したレーザ光とが同一光線上に進行して加算され、偏光方向がランダムな加工用のレーザ光を生成するようにしたレーザ加工装置。
IPC (2件):
B23K 26/00 ,  H01S 3/00
FI (3件):
B23K 26/00 E ,  B23K 26/00 Z ,  H01S 3/00 B
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-061141
  • レーザ加工光学装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-153277   出願人:株式会社日立製作所

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