特許
J-GLOBAL ID：200903021649981941
表面シール中空ガラス容器の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-542336
公開番号（公開出願番号）：特表2000-512259
出願日： 1998年03月28日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】表面シール中空ガラス容器の製造方法は、製造工程において、中空ガラス容器の製造機械の後方に配置されている冷却炉の出口の範囲内で、中空ガラス容器のコーティングを水が基剤の冷間コーティング処理剤を用いて行ない、その際冷間コーティング処理剤は次の成分:I.官能基を1個有するアルコキシシランおよびトリアルコキシシラン、ジアルコキシシランおよびテトラアルコキシシランから選択されたアルコキシシランから製造された、水が基剤のオルガノポリシロキサン含有組成物、およびII.ロウ、脂肪酸部分エステル、脂肪酸および/または界面活性剤から選択されたケイ素不含成分を含有することを特徴とする。こうして製造された中空ガラス容器は、増加した連続使用強度を有する。
請求項（抜粋）：
製造工程において、中空ガラス容器の製造機械の後方に配置されている冷却炉の出口の範囲内で、中空ガラス容器のコーティングを水が基剤の冷間コーティング処理剤を用いて行なう、表面シール中空ガラス容器の製造方法において、冷間コーティング処理剤が次の成分:I.次のもの: a)一般式 A-Si(R1)y(OR*)3-y I の、官能基を1個有するアルコキシシランQモル および b)次のもの α)一般式 R2-Si(OR**)3 II のトリアルコキシシラン および/または β)一般式 R3R4Si(OR***)2 III のジアルコキシシラン および/または γ)一般式 Si(OR****)4 IV のテトラアルコキシシランから選択されたアルコキシシランMモル[上記式中Aは、少なくとも1つの直接または脂肪族または芳香族炭化水素を介してケイ素と結合しているアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アミド基、エポキシ基、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、シアノ基、イソシアナト基、ウレイド基、チオシアナト基、メルカプト基、スルファン基またはハロゲン基を有する置換基を意味し、R1=メチル、エチルまたはA(上記に定義したような)、y=0または1、R*、R**、R***およびR****は、互いに独立に1〜8C原子を有するアルキル基またはアルキル[(ポリ)エチレングリコール]基で置換されている相応するアルキル基であり、R2、R3およびR4は互いに独立にその都度最大18C原子を有するアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基または芳香族基または部分フッ素化または過フッ素化されおよび/またはアルキルオキシ基および/またはアリールオキシ基で置換されているこのような基である]から モル比0≦M/Q≦20で製造された、水が基剤のオルガノポリシロキサン含 有組成物、II.次のもの: a) ロウおよび/または b) 脂肪酸部分エステルおよび/または c) 脂肪酸および/または d) 界面活性剤 から選択されたケイ素不含成分を含有することを特徴とし;さらに水が基剤の冷間コーティング処理剤は0.1〜10重量%の乾燥分割合を有し、その際、乾燥分に対して、オルガノポリシロキサン含有組成物(成分I)対ケイ素不含成分IIの重量比は0.05:1〜20:1であることを特徴とする表面シール中空ガラス容器の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03C 17/30 A
, C09J183/04
