特許
J-GLOBAL ID：200903021668527364

パターン形成された薄膜及びその膜の熱支援磁気記録媒体での温度制御層としての使用

発明者：
ユリウス カート ホフルフェルド

ユリウス カート ホフルフェルド について

, 
クボタ ユキコ

クボタ ユキコ について

, 
ディーター クラウス ウェラー

ディーター クラウス ウェラー について

, 
スタンコ ラドヴァン ブランコヴィク

スタンコ ラドヴァン ブランコヴィク について

, 
シャオミン ヤン

シャオミン ヤン について

, 
アール クリツァスツクツ ジョーンズ

アール クリツァスツクツ ジョーンズ について


出願人/特許権者：
シーゲイト テクノロジー エルエルシー

シーゲイト テクノロジー エルエルシー について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-378275
公開番号（公開出願番号）：特開2006-196151
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】熱伝達を効率的に制御することのできる記録膜の提供。【解決手段】パターン形成された薄膜は、比較的高熱伝導率材料の領域によって分離された比較的低熱伝導率材料の領域を含む。低熱伝導率領域は、高熱伝導率材料の連続的なマトリックス中に構成された円筒又は直方体の形態で設けることができる。熱支援磁気記録媒体などのデータ記録媒体中で温度制御層として、この薄膜を使用することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
少なくとも部分的に薄膜の膜厚を貫通して延在する低熱伝導率材料の領域と、前記低熱伝導率材料の領域を分離する高熱伝導率材料の領域とを含む薄膜において、これらの領域が、前記低熱伝導率の領域よりも前記高熱伝導率の領域で、前記薄膜の膜厚を貫通する熱伝導がより大きくなるように構成および配置されている薄膜。
IPC (4件)：
G11B 5/738 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/64 ,  G11B 5/84
FI (4件)：
G11B5/738 ,  G11B5/65 ,  G11B5/64 ,  G11B5/84 Z
Fターム (12件)：
5D006BB02 ,  5D006BB06 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CA05 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112BB02 ,  5D112BB05 ,  5D112BD03 ,  5D112BD08 ,  5D112GA20
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM