特許
J-GLOBAL ID:200903021669843561

薄層状態で培養される組織のための生物反応装置及びその用途

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ▲吉▼川 俊雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-571806
公開番号(公開出願番号):特表2004-528832
出願日: 2002年03月08日
公開日(公表日): 2004年09月24日
要約:
本発明は、細胞培養または組織培養のための反応装置であって、特に薄層の形態を成す細胞または組織の培養に適した反応装置に関する。反応装置は、生理的な刺激を与えるとともに、培養の薄くなった厚さに適合する培養媒体中に栄養を供給する手段を備えている。反応装置は、インプラントを形成するために使用できるとともに、組織または細胞に機械的な刺激を与える手段と、構造的な組織に適した培養媒体に栄養を供給する手段とを備えている。また、反応装置は、有利な方法で、組織またはインプラントの固体部分を培養チャンバ内に容易に挿入できる手段または形態、例えば弾性変形可能な壁または、要素を備えている。また、反応装置は、温度調節手段を有していても良い。反応装置は、様々なタイプの細胞の培養に使用できるとともに、様々な形態、組成、用途のインプラントの形成に使用できる。
請求項(抜粋):
細胞培養または組織培養のための反応装置であって、(i)1〜1000ミクロン、好ましくは10〜1000ミクロン、更に好ましくは50〜800ミクロンの培養空間を2つの壁間に形成する培養チャンバと、(ii)前記空間内で細胞または組織に機械的な刺激を与える手段と、(iii)好ましくは、培養空間内で培養媒体を潅流させる手段とを備えている反応装置。
IPC (4件):
C12M3/00 ,  C12M1/38 ,  C12M3/04 ,  C12N5/06
FI (4件):
C12M3/00 A ,  C12M1/38 Z ,  C12M3/04 Z ,  C12N5/00 E
Fターム (13件):
4B029AA02 ,  4B029AA27 ,  4B029BB11 ,  4B029CC10 ,  4B029CC11 ,  4B029DA04 ,  4B029DB19 ,  4B029DD06 ,  4B029DF01 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065BD50 ,  4B065CA44
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
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