研磨用プレートおよびそれを用いた研磨装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-076082
公開番号（公開出願番号）：特開平10-264013
出願日： 1997年03月27日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】【課題】研磨定盤や固定プレート等の研磨用プレートの耐食性を高め、被研磨物の金属イオンによる汚染を防止した上で、強度の低下、重量の増加、製造コストの増大等を抑制して実用性を高める。【解決手段】金属材料でプレート本体、例えば研磨定盤1の定盤本体2を作製し、その少なくとも研磨液と接する側の表面に、セラミックス被覆層5を溶射法、PVD法、CVD法等で被覆形成する。溶射法でセラミックス被覆層5を形成した場合には、有機材料や無機材料で例えば封孔処理する。セラミックス被覆層を適用した研磨用プレートは、被研磨物の固定プレートに対しても有効である。このような研磨定盤1や固定プレートを用いて研磨装置を構成する。

請求項（抜粋）：