投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-196908
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029816
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【目的】ウエハ主光線傾き角をモニターし、高解像力の投影パターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。【構成】光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該光源からの光束を集光して2次光源を形成し、該2次光源を該投影光学系の瞳面近傍に結像する光学系と、該投影光学系の瞳面と共役な面内において、該2次光源と共役な位置から射出する光線の該基板面への入射角度を測定する検出手段とを有していること。

請求項（抜粋）：

光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該光源からの光束を集光して2次光源を形成し、該2次光源を該投影光学系の瞳面近傍に結像する光学系と、該投影光学系の瞳面と共役な面内において、該2次光源と共役な位置から射出する光線の該基板面への入射角度を測定する検出手段とを有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 527 , H01L 21/30 516 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-237829 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-065623
特開昭62-266513

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