特許
J-GLOBAL ID:200903021695867509

硫酸ラジカルを用いた水処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 社本 一夫 ,  栗田 忠彦 ,  桜井 周矩 ,  村上 清 ,  細川 伸哉 ,  松山 美奈子 ,  小磯 貴子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-138268
公開番号(公開出願番号):特開2006-314880
出願日: 2005年05月11日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】 硫酸ラジカルの発生及び酸化能力を利用して、水媒体、特に難生分解性の水媒体を効率よく処理することができる方法及び装置を提供する。 【解決手段】 反応槽30内で水媒体31の温度を60°C以上374°C未満に調整し、水媒体31が液相を維持できる圧力下において、水媒体31に硫酸ラジカル源39を迅速に添加して水媒体31中で硫酸ラジカルを効率よく発生させ、硫酸ラジカルと水媒体31とを急速に撹拌混合させ、硫酸ラジカルと水媒体中のCOD成分とを反応させる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
COD成分含有水媒体の温度を60°C以上374°C未満とし、該温度における該水媒体の飽和蒸気圧以上の圧力を該水媒体に加えて該水媒体を液相状態に維持し、該水媒体に硫酸ラジカル源を添加して急速撹拌混合することにより硫酸ラジカルを発生させ、該硫酸ラジカルとCOD成分とを反応させることを特徴とする水媒体の処理方法。
IPC (9件):
C02F 1/72 ,  B01J 3/00 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/74 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78 ,  C02F 11/00 ,  C02F 11/06 ,  C02F 11/12
FI (11件):
C02F1/72 Z ,  B01J3/00 A ,  C02F1/58 A ,  C02F1/74 Z ,  C02F1/74 101 ,  C02F1/76 Z ,  C02F1/78 ,  C02F11/00 Z ,  C02F11/06 A ,  C02F11/12 C ,  C02F11/12 Z
Fターム (61件):
4D038AA08 ,  4D038AB07 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB01 ,  4D038BB10 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D050AA13 ,  4D050AA15 ,  4D050AA20 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050AB15 ,  4D050AB18 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BB06 ,  4D050BB09 ,  4D050BB13 ,  4D050BB20 ,  4D050BC01 ,  4D050BC02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA10 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16 ,  4D059AA01 ,  4D059AA02 ,  4D059AA03 ,  4D059AA07 ,  4D059AA23 ,  4D059BC02 ,  4D059BC05 ,  4D059BE01 ,  4D059BE37 ,  4D059BE42 ,  4D059BE54 ,  4D059BK30 ,  4D059CA28 ,  4D059DA01 ,  4D059DA43 ,  4D059DA44 ,  4D059DA45 ,  4D059DA47 ,  4D059DA70 ,  4D059EA05 ,  4D059EA06 ,  4D059EA08 ,  4D059EB05 ,  4D059EB06 ,  4D059EB08
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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