特許
J-GLOBAL ID：200903021707645019
イオン注入装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池田 憲保
, 福田 修一
, 佐々木 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-103094
公開番号（公開出願番号）：特開2008-262748
出願日： 2007年04月10日
公開日（公表日）： 2008年10月30日
要約：
【課題】 インジェクタフラグファラデーカップによりその周辺部材が悪影響を受けることが無いイオン注入装置を提供する。【解決手段】 ビームスキャナ36への入射前のビームライン上に、イオンビームの全ビーム量を計測してビーム電流を検出するインジェクタフラグファラデーカップ32が入れ出し可能に配置される。インジェクタフラグファラデーカップ32をビームラインに挿入してイオンビームを遮断すると、イオンビームがインジェクタフラグファラデーカップ32に設けられたグラファイト32aに当たる。このとき、イオンビームでグラファイト32aがスパッタされても、インジェクタフラグファラデーカップ32がビームスキャナ36の上流側に配置されており、インジェクタフラグファラデーカップ32でイオンビームが遮断されているので、スパッタされたグラファイト粒子がインジェクタフラグファラデーカップ32の周辺部材に付着することはない。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
イオン源から引き出されたイオンビームを、質量分析磁石装置および質量分析スリットを通過させ、ビームスキャナにより周期的に水平方向あるいはそれ以外の特定方向に往復走査させてウェハに照射し、ウェハにイオン注入を行うビームラインを有するイオン注入装置において、
前記質量分析スリットの通過後の前記ビームスキャナ入射前のビームライン上に、イオンビームの全ビーム量を計測してビーム電流を検出するファラデーカップを入れ出し可能に配置したことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, H01J 37/04
, H01L 21/265
, C23C 14/48
H01J37/317 C
, H01J37/04 A
, H01L21/265 603B
, C23C14/48 B
, H01L21/265 T
4K029AA06
, 4K029BD01
, 4K029CA10
, 4K029DE00
, 5C030AA02
, 5C030AB05
, 5C034CC19
, 5C034CD07
, 5C034CD10
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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