特許

J-GLOBAL ID：200903021741023248

露光装置

発明者： 小林 威宣
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 齋藤 和則 ,  伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-073943
公開番号（公開出願番号）：特開2006-295148
出願日： 2006年03月17日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】位置計測手段の温度変動による計測誤差を抑制すること。【解決手段】投影光学系と、原版を保持し移動する原版ステージと、前記投影光学系の光軸に平行な方向において前記原版ステージに保持された原版のパターン面の位置を計測する位置計測手段とを有し、前記位置計測手段の計測結果に基づいて前記投影光学系を介して前記原版のパターンを基板に投影する露光装置を、前記位置計測手段の温度と前記位置計測手段の出力を補償するための補償値とを関係づける補償情報を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された補償情報に基づいて、前記位置計測手段の出力を補償して前記パターン面の位置計測値を得る補償手段とを有するものとする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

投影光学系と、原版を保持し移動する原版ステージと、前記投影光学系の光軸に平行な方向において前記原版ステージに保持された原版のパターン面の位置を計測する位置計測手段とを有し、前記位置計測手段の計測結果に基づいて前記投影光学系を介して前記原版のパターンを基板に投影する露光装置であって、 前記位置計測手段の温度と前記位置計測手段の出力を補償するための補償値とを関係づける補償情報を記憶する記憶手段と、 前記記憶手段に記憶された補償情報に基づいて、前記位置計測手段の出力を補償して前記パターン面の位置計測値を得る補償手段と を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/26

FI (3件)：

H01L21/30 516A ,  G01B11/00 Z ,  G01B11/26 Z

Fターム (25件)：

2F065AA01 ,  2F065AA35 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065EE01 ,  2F065FF09 ,  2F065FF43 ,  2F065GG07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ16 ,  2F065LL04 ,  2F065LL28 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065TT08 ,  2F065UU05 ,  5F046DA06 ,  5F046DA11 ,  5F046DB04 ,  5F046DC04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 位置検出方法、面形状推測方法及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-063705   出願人：キヤノン株式会社