特許
J-GLOBAL ID：200903021898071238
真空処理装置における誘電性加工物の静電クランプ方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-513742
公開番号（公開出願番号）：特表平11-512692
出願日： 1996年09月30日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】プラズマに曝露された加工物の表面にプラズマを印加し同時に比較的高い電圧を保持器上の電極に印加することによって真空プラズマ処理チャンバ(10)内の保持器(30)に誘電性加工物(32)がクランプされる。この電極はプラズマに曝露されていない加工物の部分に近接して存在し、それによって、(A)この電極がプラズマとは実質的に異なる電圧に維持され、(B)静電荷が曝露された表面にプラズマによって印加され、(C)導電性経路がプラズマを介して静電荷から電極に印加される電圧とは実質的に異なる電位にある端子に達している。単一の電極に印加される直流電圧と保持器に基板をクランプするために曝露面にプラズマによって印加された電荷との電位差によって、十分な静電クランプ力が加工物の厚さ全体にわたって印加される。
請求項（抜粋）：
プラズマに対して曝露された加工物の表面にプラズマを印加し、同時に比較的高い電圧を保持器の電極に印加する工程であり、前記電極は、プラズマの電圧とは実質的に異なる高電圧にあるように物理的に配置され、さらに、プラズマに対して曝露されていない加工物の部分に近接して置かれ、それによって、(1)前記電極がプラズマの電圧とは実質的に異なった電圧を持ち、(2)静電電荷が曝露された加工物にプラズマによって与えられ、(3)電気的に導電性の経路が、プラズマによって加工物表面から、前記電極に印加された電圧とは実質的に異なる電位にある端子に通じており、前記静電電荷および前記電気的導電性経路が、前記加工物と前記保持器の間に静電力を発生させるようなものである工程を有することを特徴とする、真空プラズマ処理チャンバ内の保持器に誘電性の加工物をクランプする方法。
IPC (3件)：
B65G 49/06
, B25J 15/06
, H01L 21/68
B65G 49/06 A
, B25J 15/06 J
, H01L 21/68 R
