特許
J-GLOBAL ID：200903021904466029
電気化学セル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-290927
公開番号（公開出願番号）：特開2000-123847
出願日： 1998年10月13日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】ハニカム型の構造体に簡易かつ効率よくガスを供給できるようなガス供給構造を具えた電気化学セルを提供する。【解決手段】ハニカム型の構造体5からなる電気化学セルに、導入孔A1及びA2と、拡張孔B1及びB2と、流路集合孔C1及びC2と、分配孔D1及びD2とを有するガス供給構造を付与する。これによって、導入孔A1及びA2から導入されたガスは拡張孔B1及びB2において、ガスの流路の配列方向Pと略垂直方向に拡げられた後、流路集合孔C1及びC2において、一方のガスの流路E1及び他方のガスの流路E2に対応して集合させられ、次いで、分配孔D1及びD2において、配列方向Pに配列した一方のガスの流路E1及び他方のガスの流路E2のそれぞれに均一に分散される。
請求項（抜粋）：
気密質の固体電解質と気密質のインターコネクタとからなるハニカム型の構造体中に、一定方向に延びる複数の一方のガスの流路及び複数の他方のガスの流路がそれぞれ列を成して交互に形成されており、前記一方のガスの流路と前記他方のガスの流路とが、それぞれ前記固体電解質と前記インターコネクタとによって包囲されており、前記一方のガスの流路のそれぞれの壁面に陽極が形成されており、前記他方のガスの流路のそれぞれの壁面に陰極が形成されている電気化学セルであって、前記一方のガス及び前記他方のガスをそれぞれ導入するための導入孔と、前記導入孔から導入された前記一方のガス及び前記他方のガスを、それぞれ前記一方のガスの流路及び前記他方のガスの流路の配列方向と略垂直な方向に拡げるための拡張孔と、前記拡張孔によって拡げられた前記一方のガス及び前記他方のガスを、それぞれ前記一方のガスの流路及び前記他方のガスの流路に対応して集合させるための流路集合孔と、前記流路集合孔によって集合させられた前記一方のガス及び前記他方のガスを、それぞれ前記複数の一方のガスの流路及び前記複数の他方のガスの流路の配列方向に拡げ、前記複数の一方のガスの流路及び前記複数の他方のガスの流路の各々に分配するための分配孔とを有するガス供給構造を具えることを特徴とする、電気化学セル。
IPC (3件)：
H01M 8/02
, H01M 8/12
, H01M 8/24
H01M 8/02 E
, H01M 8/02 R
, H01M 8/12
, H01M 8/24 R
5H026AA06
, 5H026CC08
, 5H026CV04
, 5H026EE12
, 5H026EE13
, 5H026HH03
