特許
J-GLOBAL ID:200903021929206374

微粒子製造方法及び微粒子製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 北村 修一郎 ,  山▲崎▼ 徹也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-028344
公開番号(公開出願番号):特開2005-218937
出願日: 2004年02月04日
公開日(公表日): 2005年08月18日
要約:
【課題】 製造する微粒子の大きさを小さくすることが可能となる微粒子製造方法を提供する。【解決手段】 微粒子の原料を含む原料気体流ETと当該原料気体流ETを覆う反応気体流GRとを高温雰囲気の反応空間HKに流入させ、前記原料気体流ETの外周部で熱処理によって粒子を生成するとともに、生成した粒子を前記反応気体流GRで冷却して微粒子を製造する。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
微粒子の原料を含む原料気体流と当該原料気体流を覆う反応気体流とを高温雰囲気の反応空間に流入させ、前記原料気体流の外周部で熱処理によって粒子を生成するとともに、生成した粒子を前記反応気体流で冷却して微粒子を製造する微粒子製造方法。
IPC (5件):
B01J19/00 ,  B01J19/08 ,  C01B13/34 ,  C01B33/18 ,  C01F17/00
FI (5件):
B01J19/00 N ,  B01J19/08 K ,  C01B13/34 ,  C01B33/18 Z ,  C01F17/00 A
Fターム (46件):
4G042DA01 ,  4G042DB08 ,  4G042DB16 ,  4G042DB35 ,  4G042DD04 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G047CD04 ,  4G048AA03 ,  4G048AB01 ,  4G048AB02 ,  4G048AD03 ,  4G048AD04 ,  4G048AE05 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072GG04 ,  4G072GG05 ,  4G072RR03 ,  4G072RR11 ,  4G072RR12 ,  4G072RR25 ,  4G075AA27 ,  4G075BA06 ,  4G075BA10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EC01 ,  4G075EC03 ,  4G076AA02 ,  4G076BF10 ,  4G076CA04 ,  4G146MA14 ,  4G146MB02 ,  4G146NA13 ,  4G146NB04 ,  4G146NB07 ,  4G146NB09 ,  4G146QA07 ,  4G146QA08
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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