露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329122
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133215
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：

【要約】【課題】ディストーションによる下地パターンとレジストパターンとの位置ズレを低減する。【解決手段】少なくとも2箇所にレチクルアライメントマーク32が形成されたレチクル18を用い、レチクルステージ20でレチクル18を支持して結像光学系26の光軸(Z軸)回りに90度ずつ回転させた場合の各レチクルアライメントマーク32の位置各々に対応してレチクル顕微鏡34を配置しておき、レチクルステージ20で支持中のレチクル18がZ軸回りに回転されても何れかのレチクル顕微鏡34でレチクルアライメントマーク32を検出して、90度単位でレチクルの回転角度を把握可能とする。ステージコントローラ28は、この検出結果を用いてレチクルステージ20のレチクル支持面とウエハステージ14のウエハ支持面とを同調させてZ軸回りに回転させ、レチクル18及びウエハ12と、結像光学系26とをZ軸回りに相対的に90度単位で回転させる。

請求項（抜粋）：

レチクルを所定位置に支持するためのレチクル支持手段と、ウエハを所定位置に支持するするためのウエハ支持手段と、前記レチクルに露光光を照射するための光源と、前記光源から照射された露光光の前記レチクルによる反射又は透過光を前記ウエハ支持手段によって支持された前記ウエハ表面に結像させる結像光学系と、を備えた露光装置において、前記レチクル支持手段により支持されたレチクル及び前記ウエハ支持手段により支持されたウエハと、前記結像光学系とを該結像光学系の光軸回りに相対的に回転可能に設けた、ことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (5件)：

G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 515 G

Fターム (14件)：

5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC03 , 5F046CC05 , 5F046CC06 , 5F046DA13 , 5F046DB05 , 5F046DC04 , 5F046EB02 , 5F046ED03 , 5F046FA10 , 5F046FA17 , 5F046FC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-161004 出願人：ソニー株式会社
縮小投影露光装置及び縮小投影露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-221664 出願人：山形日本電気株式会社
光学システムにおける回転非対称画像の欠陥を補正する光学システムおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-355496 出願人：カール・ツアイス・スティフツング

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