特許

J-GLOBAL ID：200903021962526252

赤外線センサ及びその製造方法

発明者： 井上 和裕
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-106495
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298060
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【発明の目的】 安価なコストで製造することができ、しかも高感度で耐久性を有する赤外線センサを提供する。【解決手段】 空洞部23を有するヒートシンク部22の上に熱酸化によりSiO2膜25を形成し、SiO2膜25の上に電子ビーム蒸着法(基板温度60°C以下、成膜速度0.8nm/sec以下)で酸化アルミニウム膜26を形成する。こうして成膜された酸化アルミニウム膜26は、酸素が一部欠損したアモルファス状態の絶縁膜となる。こうして空洞部23の上に、SiO2膜25と酸素が一部欠損した酸化アルミニウム膜26とからなる熱絶縁薄膜24を張った後、熱絶縁薄膜24の上に熱電変換素子27及び赤外線吸収層29を設ける。

請求項（抜粋）：

熱絶縁薄膜をヒートシンク部により支持し、当該熱絶縁薄膜の上に熱型赤外線検知素子を設けた赤外線センサであって、前記熱絶縁薄膜は、酸素が一部欠損した酸化アルミニウムを主成分とする絶縁膜と、酸化シリコン膜とを有することを特徴とする赤外線センサ。

IPC (7件)：

G01J 1/02 ,  G01J 5/02 ,  G01J 5/12 ,  H01L 31/0264 ,  H01L 35/32 ,  H01L 35/34 ,  H01L 37/02

FI (7件)：

G01J 1/02 C ,  G01J 5/02 B ,  G01J 5/12 ,  H01L 35/32 A ,  H01L 35/34 ,  H01L 37/02 ,  H01L 31/08 M

Fターム (21件)：

2G065AA04 ,  2G065AB02 ,  2G065BA11 ,  2G065BA12 ,  2G065BA13 ,  2G065BA14 ,  2G065BB24 ,  2G065CA13 ,  2G065DA20 ,  2G066BA01 ,  2G066BA08 ,  2G066BA09 ,  2G066BA55 ,  5F088AA20 ,  5F088BA01 ,  5F088BA13 ,  5F088BB06 ,  5F088DA20 ,  5F088GA03 ,  5F088GA09 ,  5F088LA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 赤外線センサ及び赤外線検出器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-151144   出願人：石塚電子株式会社
• 特開昭62-269026
  
• 特開昭62-269026
  
• 特開昭57-119356