水素化処理触媒製造用含浸液および水素化処理触媒の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009120
公開番号（公開出願番号）：特開2001-198471
出願日： 2000年01月18日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】 MoやWのような主活性成分およびCoやNiのような助活性成分が共に安定に溶解された、高い活性を示す水素化処理触媒を製造するための含浸液を提供する。【解決手段】 Moを含むイオンおよびWを含むイオンから選ばれる少なくとも一つの第1のイオンと、Coを含むイオンおよびNiを含むイオンから選ばれる少なくとも一つの第2のイオンとが少なくとも共存し、かつ前記第1のイオンおよび前記第2のイオンのうち主に第2のイオンは、この第2のイオンにキレート剤が配位された錯イオンとして実質的に存在する水素化処理触媒製造用含浸液であって、前記キレート剤は、このキレート剤と前記第1のイオンとから生成される錯イオンの生成反応における平衡定数の対数が5以下、かつこのキレート剤と前記第2のイオンとから生成される錯イオンの生成反応における平衡定数の対数が15以上を満たす含浸液。

請求項（抜粋）：

Moを含むイオンおよびWを含むイオンから選ばれる少なくとも一つの第1のイオンと、Coを含むイオンおよびNiを含むイオンから選ばれる少なくとも一つの第2のイオンとが少なくとも共存し、かつ前記第1のイオンおよび前記第2のイオンのうち主に第2のイオンは、この第2のイオンにキレート剤が配位された錯イオンとして実質的に存在する水素化処理触媒製造用含浸液であって、前記キレート剤は、このキレート剤と前記第1のイオンとから生成される錯イオンの生成反応における平衡定数の対数が5以下、かつこのキレート剤と前記第2のイオンとから生成される錯イオンの生成反応における平衡定数の対数が15以上を満たすことを特徴とする含浸液。

IPC (6件)：

B01J 31/22 , B01J 37/02 101 , C10G 45/08 , C07B 61/00 300 , C07C 5/10 , C07C 13/16

FI (6件)：

B01J 31/22 Z , B01J 37/02 101 Z , C10G 45/08 Z , C07B 61/00 300 , C07C 5/10 , C07C 13/16

Fターム (34件)：

4G069AA03 , 4G069AA04 , 4G069AA08 , 4G069AA09 , 4G069BA01B , 4G069BA21A , 4G069BA21B , 4G069BA36A , 4G069BC59B , 4G069BC60B , 4G069BC67B , 4G069BC68B , 4G069BE08A , 4G069BE08B , 4G069BE15A , 4G069BE15B , 4G069CC02 , 4G069DA08 , 4G069EA02Y , 4G069FA02 , 4G069FC04 , 4H006AA02 , 4H006AC11 , 4H006AC13 , 4H006BA14 , 4H006BA20 , 4H006BA21 , 4H006BA30 , 4H006BA46 , 4H006BA81 , 4H029CA00 , 4H029DA00 , 4H039CB10 , 4H039CK30

引用特許：

審査官引用 (5件)

高活性触媒
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-529670 出願人：サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン
特開昭61-138538
水素化触媒製造用含浸液、水素化触媒の製造方法及び炭化水素油の水素化処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-280727 出願人：出光興産株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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