排ガス浄化フィルタ及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高橋祥泰 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-162664
公開番号（公開出願番号）：特開2002-355511
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】【課題】ハニカム構造体の隔壁に担持された触媒と堆積されたパティキュレートとの接触面積を拡大することができ,触媒によるパティキュレートの酸化反応能力を向上させることができる排ガス浄化フィルタ及びその製造方法を提供すること。【解決手段】セラミック製のハニカム構造体10と,ハニカム構造体10の隔壁11表面に担持された触媒2とを有する排ガス浄化フィルタ1において,ハニカム構造体10における隔壁11の気孔率は55〜80%であり,表面細孔量が20%以上である。

請求項（抜粋）：

セラミック製のハニカム構造体と,該ハニカム構造体の隔壁表面に担持された触媒とを有する排ガス浄化フィルタにおいて,上記ハニカム構造体における上記隔壁の気孔率は55〜80%であり,表面細孔量が20%以上であることを特徴とする排ガス浄化フィルタ。

IPC (10件)：

B01D 39/14 , B01D 39/00 , B01D 39/20 , B01D 53/94 , B01J 32/00 , B01J 35/04 301 , C04B 38/00 303 , C04B 38/00 304 , C04B 38/02 , C04B 38/04

FI (10件)：

B01D 39/14 B , B01D 39/00 B , B01D 39/20 D , B01J 32/00 , B01J 35/04 301 C , C04B 38/00 303 Z , C04B 38/00 304 Z , C04B 38/02 Z , C04B 38/04 B , B01D 53/36 103 C

Fターム (31件)：

4D019AA01 , 4D019BA05 , 4D019BB06 , 4D019BC07 , 4D019BD01 , 4D019BD03 , 4D019CA01 , 4D019CB04 , 4D019CB06 , 4D048AA18 , 4D048AB01 , 4D048BA30X , 4D048BB02 , 4D048CD05 , 4G019FA01 , 4G019FA12 , 4G019GA01 , 4G069AA01 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA13A , 4G069BA13B , 4G069BC75B , 4G069CA03 , 4G069CA07 , 4G069CA18 , 4G069DA06 , 4G069EA19 , 4G069EB01 , 4G069EC17Y , 4G069FB73

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-043955
ハニカム構造体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-175864 出願人：株式会社デンソー
セラミックフィルタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-134790 出願人：イビデン株式会社

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