特許
J-GLOBAL ID：200903022212300720

スパッタ装置

発明者：
小原 利光

小原 利光 について

, 
赤理 孝一郎

赤理 孝一郎 について


出願人/特許権者：
株式会社神戸製鋼所

株式会社神戸製鋼所 について


代理人 (1件)： 安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-100720
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294447
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】 スパッタ装置に前記補助磁極を設ける場合に、磁場形状を容易に変化させる。【解決手段】 1又は複数個のマグネトロン型スパッタ蒸発源3と1又は複数個の補助磁極9とが被蒸着物2を取り囲むようにチャンバ1に配置されたスパッタ装置であって、前記マグネトロン型スパッタ蒸発源3と前記補助磁極9とによって形成される磁場形状を変化させるために前記補助磁極9の前記被蒸着物2に対する角度を変える角度変更機構を備えている。
請求項（抜粋）：
1又は複数個のマグネトロン型スパッタ蒸発源(3)と1又は複数個の補助磁極(9)とが被蒸着物(2)を取り囲むようにチャンバ(1)に配置されたスパッタ装置であって、前記マグネトロン型スパッタ蒸発源(3)と前記補助磁極(9)とによって形成される磁場形状を変化させるために前記補助磁極(9)の前記被蒸着物(2)に対する角度を変える角度変更機構を備えていることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/35 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/203
FI (3件)：
C23C 14/35 C ,  B01J 19/08 H ,  H01L 21/203 S
Fターム (14件)：
4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075ED01 ,  4G075FC13 ,  4K029CA05 ,  4K029DC43 ,  5F103AA08 ,  5F103BB14 ,  5F103BB60
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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