イオンプレーティング方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117888
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316793
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【目的】小型でコンパクトな構成により、被処理物体表面への均一な被膜の形成を可能とするイオンプレーティング装置を提供すること。【構成】ハース21の周囲に同一平面に2重に配設された環状の電磁コイル又は環状永久磁石から成る環状の磁力発生手段25を配置する。前記磁力発生手段をその中心軸に関して回転させつつ、その傾きを変化させる第1の駆動手段を備えることにより、蒸発・イオン化された蒸着物質の放射方向を制御するようにした。

請求項（抜粋）：

ビーム発生器からプラズマビームを発生させ、このプラズマビームをハースの入射面に導き、このハースに収納された蒸着物質を蒸発・イオン化し、蒸発・イオン化された蒸着物質を前記ハースに対向して配置された基板方向に放射させてその表面に付着させるイオンプレーティング方法において、前記ハースの周囲に、環状永久磁石又は同一平面に2重に配設された環状の電磁コイルから成る環状の磁力発生手段を配置し、前記環状の磁力発生手段をその中心軸に関して回転させつつ、その傾きを変化させることにより、前記蒸発・イオン化された蒸着物質の放射方向を制御することを特徴とするイオンプレーティング方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-041667
特開平2-015166
特公平5-048299

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