特許
J-GLOBAL ID：200903022217870312
透明導電膜付基体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
廣田 雅紀
, 小澤 誠次
, 岡 晴子
, ▲高▼津 一也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-190336
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039269
出願日： 2002年06月28日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】ファイバー状又は球状等の曲面又は凹凸を有する基体に極めて均一な膜厚の透明導電膜を容易に形成することができる透明導電膜付基体の製造方法を提供する。【解決手段】ファイバー状又は球状等の曲面又は凸凹の形状を有する基体上に、直接又は中間膜を介して、パイロゾルプロセス法によって透明導電膜(ITO膜)を形成することを特徴とする透明導電膜付基体の製造方法である。
請求項（抜粋）：
曲面又は凸凹の形状を有する基体上に、直接又は中間膜を介して、パイロゾルプロセス法によって透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜付基体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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