加熱炉

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-190497
公開番号（公開出願番号）：特開平9-042854
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【目的】基板面表面に塗布したペーストを均一に加熱硬化でき、高品質な基板を製造することができる設置面積の小さな加熱炉を提供することにある。【構成】炉体2内に、ヒータ22を備えたホットプレ-ト16を貫通し、上下方向に移動可能な複数の昇降ピン15が設けられ、隔壁8の開口部9から搬入された基板12は上昇した昇降ピン15に搭載される。昇降ピン15はホットプレート16の近くまで基板12を降下させ、加熱したホットプレート16で予熱される。次いで、昇降ピン15がさらに降下して基板12はホットプレート16に真空吸着され、ホットプレート16によって本加熱される。しかる後、昇降ピン15が上昇して基板12をもとの位置まで上昇させ、給気管23のノズルから窒素ガスが基板12の表面に吹き付けて基板12の冷却を促進する。冷却後、基板12は開口部9から搬出される。

請求項（抜粋）：

加熱板上に基板を搭載して加熱する加熱炉において、加熱板を貫通する複数の小孔と、該小孔を貫通する複数の小径の棒形状で加熱板より上方に突出可能に設けた基板の保持手段と、該基板の保持手段を昇降させる昇降手段と、加熱板より上方に突出する前記基板の保持手段の長さを制御し、予熱,本加熱及び冷却の各温度に温度制御する手段と、加熱板と基板の保持手段を包含し、外気と遮る容器とを備え、該容器の一面に基板を水平方向に移動して容器内の前記基板の保持手段上に搭載する開口部を設けたことを特徴とする加熱炉。

IPC (6件)：

F27B 5/06 , F27B 5/18 , F27D 3/12 , F27D 7/06 , H01L 21/68 , H05K 3/12

FI (6件)：

F27B 5/06 , F27B 5/18 , F27D 3/12 Z , F27D 7/06 B , H01L 21/68 N , H05K 3/12 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-024050 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平4-238892
特公平1-049010

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