特許
J-GLOBAL ID：200903022341160668

ポジ型感光性組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-157367
公開番号（公開出願番号）：特開2002-323758
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：
【要約】【課題】輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも1種及び芳香環を有さないスルホニウム塩を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも1種及び芳香環を有さないスルホニウム塩を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (16件)：
2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (3件)

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