X線干渉顕微鏡およびX線反射鏡の検査方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006423
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206300
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】 X線領域での顕微鏡観察の感度を飛躍的に向上させる。【解決手段】 X線結像光学系1と像面S2に配置されたX線撮像素子3との間に反射鏡4を配置し、反射鏡4に関して像面S2と鏡像の位置に点光源P1を配置し、点光源P1により反射鏡4を介しX線結像光学系1の開口の一部1-3を通して物体面S1に配置された試料2を落射照明する。点光源1には準単色X線を用いかつ点光源1の大きさをピンホール5を用いて空間的に制限することにより、X線結像光学系1の開口1-3内をコヒーレントに照明する。また、反射原器7をビームスプリッタ6に関して物体面S1と対称の位置に配置し、試料2によるX線の位相変化をX線撮像素子3上に干渉コントラストとして出現させる。

請求項（抜粋）：

X線結像光学系と像面に配置されたX線撮像素子との間に配置された反射鏡と、この反射鏡に関して前記像面と鏡像の位置に配置され、前記反射鏡を介し前記X線結像光学系の開口の一部を通して物体面に配置された試料を落射照明する点光源とを備えたことを特徴とするX線干渉顕微鏡。

IPC (3件)：

G21K 7/00 , G01B 15/00 , G21K 1/06

FI (3件)：

G21K 7/00 , G01B 15/00 A , G21K 1/06 Z

Fターム (11件)：

2F067AA45 , 2F067BB01 , 2F067CC00 , 2F067EE03 , 2F067EE04 , 2F067GG01 , 2F067HH04 , 2F067KK11 , 2F067LL16 , 2F067PP11 , 2F067UU03

引用特許：

出願人引用 (7件)

X線顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-324589 出願人：オリンパス光学工業株式会社
軟X線検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-020275 出願人：オリンパス光学工業株式会社
干渉顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-339298 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (7件)

X線顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-324589 出願人：オリンパス光学工業株式会社
軟X線検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-020275 出願人：オリンパス光学工業株式会社
干渉顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-339298 出願人：株式会社ニコン

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