特許
J-GLOBAL ID：200903022377285548

セルロースエステルフィルム積層体およびその製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、並びに液晶表示装置

発明者：
樋口 聡

樋口 聡 について

, 
椋木 康雄

椋木 康雄 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-193664
公開番号（公開出願番号）：特開2007-237727
出願日： 2006年07月14日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】面状が良好で傷がないセルロースエステルフィルムを供給することができるセルロースエステルフィルム積層体を提供すること。【解決手段】下記式(S-1)〜(S-3)を満たし、残留溶剤量が0.01質量%以下であるセルロースエステルフィルムの少なくとも片面に、保護フィルムが積層されていることを特徴とするセルロースエステルフィルム積層体。 式(S-1) 2.5≦A+B≦3.0 式(S-2) 0≦A≦2.2 式(S-3) 0.8≦B≦3.0(Aはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Bはセルロースの水酸基に対する炭素数3〜22のアシル基の置換度を表す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(S-1)〜(S-3)を満たし、残留溶剤量が0.01質量%以下であるセルロースエステルフィルムの少なくとも片面に、保護フィルムが積層されていることを特徴とするセルロースエステルフィルム積層体。 式(S-1) 2.5≦A+B≦3.0 式(S-2) 0≦A≦2.2 式(S-3) 0.8≦B≦3.0 (式中、Aはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Bはセルロースの水酸基に対する炭素数3〜22のアシル基の置換度を表す。)
IPC (2件)：
B32B 23/08 ,  G02B 5/30
FI (2件)：
B32B23/08 ,  G02B5/30
Fターム (43件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB49 ,  2H049BB65 ,  2H049BC03 ,  2H049BC22 ,  4F100AJ04B ,  4F100AK01A ,  4F100AK01C ,  4F100AK04A ,  4F100AK04C ,  4F100AK07A ,  4F100AK07C ,  4F100AK12A ,  4F100AK12C ,  4F100AK25A ,  4F100AK25C ,  4F100AK27A ,  4F100AK27C ,  4F100AK41A ,  4F100AK41C ,  4F100AK42A ,  4F100AK42C ,  4F100AK45A ,  4F100AK45C ,  4F100AK49A ,  4F100AK49C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA06 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA04B ,  4F100CA05B ,  4F100CA07B ,  4F100CB05G ,  4F100DE01B ,  4F100GB41 ,  4F100JL13G ,  4F100JN06 ,  4F100JN10 ,  4F100JN30B
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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