特許

J-GLOBAL ID：200903022406626635

フォトマスク設計装置および設計方法

発明者： 大井 和子 ,  原 重博 ,  小山 清美
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-244978
公開番号（公開出願番号）：特開平5-341498
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【構成】 複数の不透明領域と透明領域が形成されるフォトマスクの透明領域上に、透明領域を通過する入射光に位相差を与える位相シフターを透明領域間の最短距離がしきい値未満で隣接する一対の透明領域の一方に自動配置する自動配置部9と、既に全体的にシフター配置されているフォトマスクに対し、シフター配置が正しいか否かを自動検証する自動検証部10と、既に部分的にシフター配置されているフォトマスクに対し、シフター配置済みの透明領域についてはシフター配置が正しいか否かを自動検証し、シフター未配置の透明領域については透明領域間の最短距離がしきい値未満で隣接する一対の透明領域の一方にシフターを自動配置する配置・検証部11とから構成されている。【効果】 無駄なシフター配置を防げ、シフター配置不可能箇所やシフター配置誤りを表示できる。

請求項（抜粋）：

部分的にコヒーレントな入射光を用いるフォトリソグラフィで使用され、複数の不透明領域および透明領域が形成されているフォトマスクを設計する際に、透明領域を通過する前記入射光に位相差を与える位相シフターを、透明領域間の最短距離がしきい値未満で隣接する一対の透明領域の一方に配置することを特徴とするフォトマスク設計方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G06F 15/60 370 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-006559
  
• 特開平3-156459
  
• 図形演算処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-051005   出願人：松下電器産業株式会社