印刷方法および薄膜トランジスタの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-093473
公開番号（公開出願番号）：特開2007-268713
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】本発明では、反転印刷方式により基材上に画像パターンを形成し印刷物を製造する場合において、微小な孤立パターンであっても画像パターンが変形したり、印刷抜けが生じないインキからなる正確な画像パターンを有する印刷方法を提供することを目的とする。【解決手段】基材上にインキからなる画像パターンを形成した印刷物の製造方法であって、ブランケット上にインキを設ける工程と、第一の凸版をブランケットに接触させることにより、第一の凸版の凸部パターンと接触した部分のブランケット上のインキを除去する工程と、第二の凸版をブランケットに接触させることにより、第二の凸版の凸部パターンと接触した部分のブランケット上のインキを除去する工程と、ブランケット上に残ったインキを基材と接触させることにより、基材上にインキからなる画像パターンを形成する工程を備えることを特徴とする印刷方法とする。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基材上にインキからなる画像パターンを形成した印刷物の製造方法であって、ブランケット上にインキを設ける工程と、第一の凸版をブランケットに接触させることにより、第一の凸版の凸部パターンと接触した部分のブランケット上のインキを除去する工程と、第二の凸版をブランケットに接触させることにより、第二の凸版の凸部パターンと接触した部分のブランケット上のインキを除去する工程と、ブランケット上に残ったインキを基材と接触させることにより、基材上にインキからなる画像パターンを形成する工程を備えることを特徴とする印刷方法。

IPC (3件)：

B41M 1/02 , B41F 17/10 , H05K 3/12

FI (3件)：

B41M1/02 , B41F17/10 H , H05K3/12 630Z

Fターム (19件)：

2H113AA05 , 2H113AA06 , 2H113BA01 , 2H113BB08 , 5E343AA03 , 5E343AA12 , 5E343AA18 , 5E343BB23 , 5E343BB24 , 5E343BB25 , 5E343BB44 , 5E343BB48 , 5E343BB49 , 5E343BB72 , 5E343DD02 , 5E343DD56 , 5E343DD64 , 5E343FF02 , 5E343GG08

引用特許：

出願人引用 (2件)

特公昭60-29358号公報
パターン形成方法及びパターン形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-120689 出願人：凸版印刷株式会社

審査官引用 (1件)

パターン形成方法及びパターン形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-120689 出願人：凸版印刷株式会社

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