パターン形成方法及びパターン形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋元輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-120689
公開番号（公開出願番号）：特開2005-301146
出願日： 2004年04月15日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】パターン構成色が異なる複数のパターンを塗布ローラに形成するための除去版を小型のものとし、その除去版を用いて塗布ローラそれぞれに形成されたパターンを、基材での基準に対する位置合わせ容易に転写して、良好な複合パターンを得る。【解決手段】基板60に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラ2R、2G、2Bを介して転写して、パターン形状が同一のパターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを基板60に形成するに際し、パターン形状を同一にするパターン構成色の塗布液が塗布された複数の塗布ローラ2R、2G、2Bを順次押圧する一つの第一の塗布液除去版4と、前記組み合わせ部分以外のパターンのパターン構成色の塗布液が塗布された塗布ローラ2BMを押圧する第二の塗布液除去版5との少なくとも何れか一方をロール版とし、前記塗布液除去版4、5による塗布ローラ2BM、2R、2G、2Bの塗布液に対する転写除去で、各塗布ローラにパターンを形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターン形状が同一のパターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成するに際し、塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液が供給される塗布ローラを前記パターン構成色ごとに有して、該塗布ローラを、前記複数のパターンのネガパターンとした凸部を有する塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写する転写工程とを備えるパターン形成方法において、パターン形状を同一にするパターン構成色の塗布液が塗布された複数の塗布ローラを、該塗布ローラが対応する一つの第一の塗布液除去版に順次押圧するとともに、前記組み合わせ部分以外のパターンのパターン構成色の塗布液が塗布された塗布ローラを、該塗布ローラが対応する第二の塗布液除去版に押圧し、少なくとも何れか一方の塗布液除去版がロール版であり、前記基板、前記塗布ローラ、前記第一の塗布液除去版、第二の塗布液除去版の何れかの位置を調整することにより、前記組み合わせ部分と前記組み合わせ部分以外のパターンからなる前記複合パターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (6件)：

G02B5/20 , B05C1/02 , B05C11/10 , B05D1/28 , B05D3/12 , B41M1/02

FI (6件)：

G02B5/20 101 , B05C1/02 102 , B05C11/10 , B05D1/28 , B05D3/12 E , B41M1/02

Fターム (36件)：

2H048BA02 , 2H048BA64 , 2H048BB02 , 2H048BB42 , 2H113AA01 , 2H113AA05 , 2H113BA01 , 2H113BB07 , 2H113CA17 , 2H113FA10 , 2H113FA32 , 2H113FA48 , 4D075AC23 , 4D075AC84 , 4D075AC88 , 4D075AC93 , 4D075BB20Z , 4D075CB36 , 4D075DA06 , 4D075DC24 , 4D075EC07 , 4F040AA02 , 4F040AA12 , 4F040AA14 , 4F040AB04 , 4F040AC01 , 4F040BA12 , 4F040CB06 , 4F040CB21 , 4F042AA06 , 4F042AA10 , 4F042AB00 , 4F042BA25 , 4F042CB11 , 4F042CB12 , 4F042CB27

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平11-0589211号公報(段落番号0008、図1)
画像形成法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-217286 出願人：光村印刷株式会社
印刷機
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-013446 出願人：光村印刷株式会社

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