レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-036734
公開番号（公開出願番号）：特開2009-191055
出願日： 2008年02月18日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：

【課題】レジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、および酸発生剤の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1-1)中、Xは二価の連結基又は単結合であり;Rは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり;R’は脂肪族基であり;nは1〜10の整数であり;A+は有機カチオンである。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

C07C 311/51 , C07C 381/12 , C09K 3/00 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (6件)：

C07C311/51 , C07C381/12 , C09K3/00 K , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB48 , 4H006AB81

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-201310 出願人：東京応化工業株式会社

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