特許
J-GLOBAL ID:200903022525123366

電磁弁装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 服部 雅紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-072439
公開番号(公開出願番号):特開2003-269641
出願日: 2002年03月15日
公開日(公表日): 2003年09月25日
要約:
【要約】【課題】 外部への音の漏れを低減する電磁弁装置を提供する。【解決手段】 流体流路100を形成するハウジング20の収容孔120側端部の内周壁に係止部22が形成されている。流入口102、流出口104およびドレイン口106は流体流路100と連通している。弁座部材30は、流入口102を形成するハウジング20の内周壁に嵌合して取り付けられている。弁座部材30は、貫通孔110の流入口102側周囲に第1弁座32、ドレイン口106側周囲に第2弁座34を有している。連通孔112は流出口104と貫通孔110とを連通している。可動部材40は可動コア60とともに往復移動する。係止部22および第2弁座34に可動部材40の当接部44が係止されることにより可動部材40の往復移動ストロークが決定される。ボール50は、弁座部材30を挟み当接部44と反対側に設置されており、第1弁座32に当接可能である。
請求項(抜粋):
磁性材で形成されており、流体流路、前記流体流路と連通している第1流路口、第2流路口および第3流路口、ならびに前記流体流路を形成する内周壁に係止部を有するハウジングと、前記ハウジングと向き合っている可動コアと、前記内周壁に取り付けられ、前記第1流路口と前記第3流路口とを連通可能な貫通孔、前記貫通孔と前記第2流路口とを連通する連通孔、前記貫通孔の前記第1流路口側周囲に形成されている第1弁座、ならびに前記貫通孔の前記第3流路口側周囲に形成されている第2弁座を有する弁座部材と、前記係止部と前記第2弁座との間で前記流体流路に収容されている当接部、ならびに前記当接部側から前記貫通孔に挿入されているロッドを有し、前記可動コアとともに往復移動する可動部材と、前記弁座部材を挟んで前記当接部と反対側に設置されており、前記当接部が前記係止部側に移動することより前記第1弁座に当接可能なボールと、前記ハウジングに前記可動コアを吸引する磁気吸引力を発生するコイルと、前記ハウジングから離れる方向に前記可動コアを付勢する付勢部材とを備え、前記可動部材が前記可動コアとともに往復移動することにより、前記当接部は往復移動方向の一方で前記係止部に係止され、往復移動方向の他方で前記第2弁座に係止され、前記当接部が前記係止部と当接し前記ボールが前記第1弁座に当接すると、前記第2流路口と前記第3流路口とは前記連通孔および前記貫通孔を介して連通し、前記第1流路口と前記第2流路口および前記第3流路口との連通は遮断され、前記当接部が前記第2弁座に当接し前記ボールが前記第1弁座から離れると、前記第1流路口と前記第2流路口とは前記貫通孔および前記連通孔を介して連通し、前記第3流路口と前記第1流路口および前記第2流路口との連通は遮断されることを特徴とする電磁弁装置。
IPC (2件):
F16K 31/06 305 ,  F16K 31/06
FI (2件):
F16K 31/06 305 K ,  F16K 31/06 305 Q
Fターム (15件):
3H106DA08 ,  3H106DA13 ,  3H106DA23 ,  3H106DB02 ,  3H106DB12 ,  3H106DB23 ,  3H106DB32 ,  3H106DC04 ,  3H106DC18 ,  3H106DD09 ,  3H106EE20 ,  3H106EE30 ,  3H106EE33 ,  3H106KK03 ,  3H106KK17
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • ソレノイド弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-293870   出願人:アイシン・エイ・ダブリユ株式会社
  • 電磁弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-350976   出願人:三菱電機株式会社
  • 電磁弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-103582   出願人:株式会社日本自動車部品総合研究所, 株式会社デンソー
審査官引用 (3件)
  • ソレノイド弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-293870   出願人:アイシン・エイ・ダブリユ株式会社
  • 電磁弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-350976   出願人:三菱電機株式会社
  • 電磁弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-103582   出願人:株式会社日本自動車部品総合研究所, 株式会社デンソー

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