特許
J-GLOBAL ID：200903022592424273

新規なスルホン酸4級アンモニウム塩

発明者：
浅井 伸夫

浅井 伸夫 について

, 
櫻川 絵里

櫻川 絵里 について

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石川 浩二

石川 浩二 について

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後藤 崇明

後藤 崇明 について


出願人/特許権者：
四日市合成株式会社

四日市合成株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 一 ,  松田 寿美子 ,  近藤 久美 ,  南野 雅明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-021321
公開番号（公開出願番号）：特開2005-213193
出願日： 2004年01月29日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【解決手段】 一般式(1)で示されるN,N-ビス(2-ヒドロキシアルキル)アミノエチルスルホン酸4級アンモニウム塩。(式中、R1及びR2は、同一又は異なる炭素数2〜4のアルキレン基を示し、R3〜R6の少なくとも1つは、同一又は異なる炭素数2〜4の2-ヒドロキシアルキル基を示し、かつ残余は同一又は異なる炭素数1〜18の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。) 【化29】【効果】 本発明の新規なスルホン酸4級アンモニウム塩は、1分子中に3個以上の水酸基を有しており、界面活性剤原料、医薬中間体、有機薬品中間体、ポリウレタン原料、ポリエステル原料などに有用である。
請求項（抜粋）：
一般式(1)で示されるN,N-ビス(2-ヒドロキシアルキル)アミノエチルスルホン酸4級アンモニウム塩。 (式中、R1及びR2は、同一又は異なる炭素数2〜4のアルキレン基を示し、R3〜R6の少なくとも1つは、同一又は異なる炭素数2〜4の2-ヒドロキシアルキル基を示し、かつ残余は同一又は異なる炭素数1〜18の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。)
IPC (3件)：
C07C309/14 ,  C07C215/40 ,  C07C303/22
FI (3件)：
C07C309/14 ,  C07C215/40 ,  C07C303/22
Fターム (7件)：
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB70 ,  4H006AB84 ,  4H006AC43 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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