特許
J-GLOBAL ID:200903022602829803
噴射システムを制御するための制御エレメント
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-536869
公開番号(公開出願番号):特表2003-514188
出願日: 2000年11月08日
公開日(公表日): 2003年04月15日
要約:
【要約】本発明は、噴射システムのための制御エレメント(1)であって、噴射システムが、高圧集合容器(12)を有しており、該高圧集合容器(12)から高圧流入管路(7)が、当該制御エレメント(1)を取り囲むケーシング(6)に向かって延びている形式のものに関する。該ケーシング(6)は、リザーバ(21)に通じる無圧の流出通路(8)と、噴射システム(34,35)に通じる接続孔(9)とを有している。流入側の制御縁部(17,18)の、高圧管路(7)の閉鎖を生ぜしめる重なりは、操作機構(2,3)の制御によって、当該制御エレメント(1)に対応配置された少なくとも1つの蓄力器(4)によって助成されて行われる。
請求項(抜粋):
噴射システムのための制御エレメントであって、噴射システムが、高圧集合容器(12)を有しており、該高圧集合容器(12)から高圧流入管路(7)が、当該制御エレメント(1)を取り囲むケーシング(6)に向かって延びており、該ケーシング(6)が、リザーバ(21)に通じる無圧の流出通路(8)と、噴射システム(34,35)に通じる接続孔(9)とを有している形式のものにおいて、流入側の制御縁部(17,18)の、高圧管路(7)の閉鎖を生ぜしめる重なりが、操作機構(2,3)の制御と、当該制御エレメント(1)に設けられた蓄力器(4)の弛緩とによって行われるようになっていることを特徴とする、噴射システムのための制御エレメント
IPC (6件):
F02M 51/00
, F02M 47/00
, F02M 55/02 310
, F16K 11/07
, F16K 31/06 305
, F16K 31/06 385
FI (9件):
F02M 51/00 F
, F02M 47/00 F
, F02M 47/00 L
, F02M 47/00 M
, F02M 47/00 P
, F02M 55/02 310 C
, F16K 11/07 F
, F16K 31/06 305 Z
, F16K 31/06 385 A
Fターム (32件):
3G066AA07
, 3G066AB02
, 3G066AC09
, 3G066AD12
, 3G066BA19
, 3G066BA26
, 3G066CA01T
, 3G066CB12
, 3G066CB16
, 3G066CC06T
, 3G066CC14
, 3G066CE12
, 3G066CE13
, 3G066CE22
, 3G066CE34
, 3H067AA17
, 3H067DD05
, 3H067DD13
, 3H067DD32
, 3H067ED11
, 3H067FF11
, 3H067GG14
, 3H106DA08
, 3H106DA25
, 3H106DA32
, 3H106DC09
, 3H106DC18
, 3H106DD03
, 3H106EE48
, 3H106FA08
, 3H106GC02
, 3H106KK18
引用特許:
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