特許
J-GLOBAL ID:200903022602829803

噴射システムを制御するための制御エレメント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-536869
公開番号(公開出願番号):特表2003-514188
出願日: 2000年11月08日
公開日(公表日): 2003年04月15日
要約:
【要約】本発明は、噴射システムのための制御エレメント(1)であって、噴射システムが、高圧集合容器(12)を有しており、該高圧集合容器(12)から高圧流入管路(7)が、当該制御エレメント(1)を取り囲むケーシング(6)に向かって延びている形式のものに関する。該ケーシング(6)は、リザーバ(21)に通じる無圧の流出通路(8)と、噴射システム(34,35)に通じる接続孔(9)とを有している。流入側の制御縁部(17,18)の、高圧管路(7)の閉鎖を生ぜしめる重なりは、操作機構(2,3)の制御によって、当該制御エレメント(1)に対応配置された少なくとも1つの蓄力器(4)によって助成されて行われる。
請求項(抜粋):
噴射システムのための制御エレメントであって、噴射システムが、高圧集合容器(12)を有しており、該高圧集合容器(12)から高圧流入管路(7)が、当該制御エレメント(1)を取り囲むケーシング(6)に向かって延びており、該ケーシング(6)が、リザーバ(21)に通じる無圧の流出通路(8)と、噴射システム(34,35)に通じる接続孔(9)とを有している形式のものにおいて、流入側の制御縁部(17,18)の、高圧管路(7)の閉鎖を生ぜしめる重なりが、操作機構(2,3)の制御と、当該制御エレメント(1)に設けられた蓄力器(4)の弛緩とによって行われるようになっていることを特徴とする、噴射システムのための制御エレメント
IPC (6件):
F02M 51/00 ,  F02M 47/00 ,  F02M 55/02 310 ,  F16K 11/07 ,  F16K 31/06 305 ,  F16K 31/06 385
FI (9件):
F02M 51/00 F ,  F02M 47/00 F ,  F02M 47/00 L ,  F02M 47/00 M ,  F02M 47/00 P ,  F02M 55/02 310 C ,  F16K 11/07 F ,  F16K 31/06 305 Z ,  F16K 31/06 385 A
Fターム (32件):
3G066AA07 ,  3G066AB02 ,  3G066AC09 ,  3G066AD12 ,  3G066BA19 ,  3G066BA26 ,  3G066CA01T ,  3G066CB12 ,  3G066CB16 ,  3G066CC06T ,  3G066CC14 ,  3G066CE12 ,  3G066CE13 ,  3G066CE22 ,  3G066CE34 ,  3H067AA17 ,  3H067DD05 ,  3H067DD13 ,  3H067DD32 ,  3H067ED11 ,  3H067FF11 ,  3H067GG14 ,  3H106DA08 ,  3H106DA25 ,  3H106DA32 ,  3H106DC09 ,  3H106DC18 ,  3H106DD03 ,  3H106EE48 ,  3H106FA08 ,  3H106GC02 ,  3H106KK18
引用特許:
審査官引用 (1件)

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