特許
J-GLOBAL ID：200903022615450579
ディスク記録又は再生装置用回路基板の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸山 敏之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-154836
公開番号（公開出願番号）：特開2002-352573
出願日： 2001年05月24日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：
【要約】【課題】ディスクを装置内に高温下で長時間放置しておいても、ディスクを曇らせない。【解決手段】ディスク60が収納されるキャビネット2内に、回路基板3が配備される。回路基板3は、キャビネット2に配備される前に、キャビネット2の外にて、70°C下にて24時間放置され、予めディスク60を曇らせる要因となる成分を放出させる処理が施される。
請求項（抜粋）：
ディスク(60)が収納されるキャビネット(2)内に配備され、高温下にて化学反応してディスク(60)を曇らせる要因となる成分を放出するディスク記録又は再生装置用の回路基板(3)を処理する方法であって、回路基板(3)には、キャビネット(2)に配備される前に、キャビネット(2)外にて一定高温下にて一定時間放置され、ディスク(60)を曇らせる要因となる成分を予め放出させる処理が施されることを特徴とする基板の処理方法。
IPC (2件)：
G11B 33/12 304
, G11B 33/14
G11B 33/12 304
, G11B 33/14 Z
