特許
J-GLOBAL ID：200903022623373664
フタリド化合物、およびこれを用いる近赤外線吸収剤並びに記録材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森岡 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-145673
公開番号（公開出願番号）：特開平7-268223
出願日： 1994年06月03日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 一般式(I)で表されるフタリド化合物、およびこれを用いる近赤外線吸収剤並びに記録材料に関する。(式中、環Aは下記の構造式で表される置換基を示し、R1 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を、nは1〜3の整数を示す。環Bは芳香環を示し、R2 はアルキル基またはアリール基を示し、R3 はアルキル基を示し、R4 , R5 はアルキル基または置換基を有してもよいフェニル基を示し、R6 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基を示す。)【効果】 フタリド化合物を用いた近赤外線吸収剤並びに記録材料の記録画像は、近赤外領域には強い吸収を示すが可視領域の吸収が小さいので記録画像が目視においては読み取りが困難であるが、OCRによって読み取ることができる。
請求項（抜粋）：
一般式(I)で表されるフタリド化合物。【化1】(式中、環Aは下記の構造式で表される置換基を示し、【化2】R1 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示し、nは1〜3の整数を示す。環Bは下記の構造式で表される置換基を示す。【化3】R2 はアルキル基またはアリール基を示し、R3 はアルキル基を示し、R4 ,R5 は個別にアルキル基または置換基を有してもよいフェニル基を示し、R6 は水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を示す。)
IPC (5件)：
C09B 11/00
, C07D405/06 209
, C09K 9/02
, G11B 7/24 516
, B41M 5/26
