3次元フォトニック結晶体の作製方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：韮澤弘 , 阿部龍吉 , 蛭川昌信 , 内田亘彦 , 菅井英雄 , 青木健二 , 米澤明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-013440
公開番号（公開出願番号）：特開2007-193252
出願日： 2006年01月23日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：

【課題】多種多様な構成で多種多様な材料の3次元フォトニック結晶体を簡便に高いスループットで安価に作製することができる方法。【解決手段】周期的な高屈折領域と低屈折領域が3次元に配列された3次元フォトニック結晶体の作製方法であって、モールド10基板の表面の1次元方向又は2次元方向に規則的な微細凹凸パターン、あるいは、その規則的な微細凹凸パターン中に欠陥が導入されてなる微細凹凸パターンが形成されており、そのモールド10上に剥離材層を成膜し、その上に屈折率の異なる薄膜層が規則的に交互に積層されてなる多層膜、あるいは、その規則的に積層されてなる多層膜中に欠陥が導入されてなる多層膜16を積層し、その上に基材17を接着し、剥離材層を溶解してモールド10から剥離する3次元フォトニック結晶体の作製方法。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

周期的な高屈折領域と低屈折領域が3次元に配列された3次元フォトニック結晶体の作製方法であって、モールドの表面の1次元方向又は2次元方向に規則的な微細凹凸パターン、あるいは、その規則的な微細凹凸パターン中に欠陥が導入されてなる微細凹凸パターンが形成されており、そのモールド上に剥離材層を成膜し、その上に屈折率の異なる薄膜層が規則的に交互に積層されてなる多層膜、あるいは、その規則的に積層されてなる多層膜中に欠陥が導入されてなる多層膜を積層し、その上に基材を接着し、前記剥離材層を溶解して前記モールドから剥離することを特徴とする3次元フォトニック結晶体の作製方法。

IPC (5件)：

G02B 6/13 , G02B 1/02 , G02B 5/18 , G02B 6/12 , G02B 6/122

FI (5件)：

G02B6/12 M , G02B1/02 , G02B5/18 , G02B6/12 Z , G02B6/12 D

Fターム (17件)：

2H049AA02 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA59 , 2H049AA62 , 2H049AA65 , 2H147BF04 , 2H147BF06 , 2H147BF08 , 2H147BF13 , 2H147BG04 , 2H147EA14C , 2H147FA01 , 2H147FA08 , 2H147FA09 , 2H147FC02 , 2H147FD01

引用特許：

出願人引用 (2件)

3次元フォトニック結晶構造体の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-246522 出願人：日本電信電話株式会社, 川上彰二郎
米国特許第5,772,905号明細書

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