特許
J-GLOBAL ID:200903022761396314
ステージ装置、ステージ装置の調整方法及び露光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
前田 均
, 西出 眞吾
, 大倉 宏一郎
, 佐藤 美樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-288107
公開番号(公開出願番号):特開2006-100747
出願日: 2004年09月30日
公開日(公表日): 2006年04月13日
要約:
【課題】ステージガイドの変形を検出し調整することにより、真空チャンバー内等においても変形を防止することのできるステージ装置を提供する。 【解決手段】ステージ装置200は、ステージベース210上にブロック209を介して2本のYガイドバー203,204が設けられ、これに沿って移動するYスライダ205,206に両端を支持されたXガイドバー207にXスライダ208が設けられ、これにウエハステージ24が設置されている。Yガイドバー203,204には2軸傾斜センサ201,202が設けられており、Yガイドバー203,204の捩れを検出する。ステージベース210には、高さ調整可能な支持部230、及び、支持部230とは異なる箇所でステージベース210にZ方向+及び-の力を印加する加圧部240が各々4箇所設けられており、これらを操作することによりステージベース210の形状が調整され、Yガイドバー203,204の相対的な関係も所望の状態に維持される。 【選択図】 図3
請求項(抜粋):
ベース上に複数のガイドが設置され、前記複数のガイド各々に対して当該ガイドに沿って移動可能にスライダが設けられ、前記複数のガイドに設けられた複数の前記スライダに支持されてステージが設けられるステージ装置であって、
前記複数のガイド各々の姿勢を検出するセンサと、
前記検出された前記複数のガイド各々の姿勢に基づいて、前記複数のガイドの相対的な位置関係を検出する相対位置検出手段とを有することを特徴とするステージ装置。
IPC (2件):
FI (4件):
H01L21/30 503A
, H01L21/68 F
, H01L21/30 531A
, H01L21/30 541L
Fターム (19件):
5F031CA02
, 5F031CA07
, 5F031HA57
, 5F031HA58
, 5F031JA22
, 5F031JA30
, 5F031MA27
, 5F031PA30
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC13
, 5F046DB05
, 5F046DB10
, 5F046DC05
, 5F046DC12
, 5F046GA11
, 5F046GA12
, 5F046GA14
, 5F056EA14
引用特許:
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